www.RTTN.ru English Version  Russian Version  Search  Help  Contacts  Home     
Промышленные технологии
Информационные технологии Экология, охрана среды Медицина Биотехнологии Новые материалы Все технологии
Контекстный поиск в базе сети:
Расширенный поиск


2nd EU-Russia Innovation Forum http://www.rttn.ru/een
http://www.rttn.ru/istok
www.gate2rubin.ru
MemBridge
Торговое представительство Российской Федерации в Украине
Access 4


Российская сеть трансфера технологий

© Copyright 2002-2012 НП RTTN
Разработано: «Четвертый Рим», D-Engine

Предложение: Технология создания новых радиационно-модифицированных полупроводниковых материалов

[Скачать профиль в формате RTF] 
[Скачать профиль в формате TXT] 
16 ноября 201115 ноября 2012321302Научно-исследовательская организация из г. Обнинска разработала технологию создания радиационно-модифицированных полупроводниковых материалов: Si, соединения типа AIIIBV, эпитаксиальных пленок на основе GaN, являющихся основой для создания высокоэффективных наноструктур. Технология радиационного модифицирования позволяет получить полупроводниковые материалы с уникальными свойствами недостижимыми традиционными металлургическими методами. Разработчики ищут партнеров для технической кооперации.Наиболее широко используемым полупроводниковым материалом является кремний. Высокочистый монокристаллический кремний применяется в производстве интегральных схем, микроэлектроники, силовой электроники, электротехники, в солнечной энергетики и т.д. За последние пять лет ежегодное мировое производство полупроводникового кремния увеличилось в 2 раза и достигло 24 тысяч тонн в год, при этом ежегодный прирост производства полупроводникового кремния превышает 2 тысячи тонн. Технологии радиационного модифицирования позволяют получить полупроводниковые материалы со свойствами недостижимыми традиционными металлургическими методами.
Основное преимущество радиационно-модифицированных материалов – это высокая однородность распределения легирующей примеси по объему материала, и, следовательно, высокая однородность электрофизических свойств. По сравнению с материалами, полученными традиционными методами выращивания, неоднородность распределения свойств которых по объему материала составляет 7÷15 %, неоднородность радиационно-модифицированных полупроводников составляет всего 3÷5 %. Именно поэтому, радиационно-модифицированный Si до настоящего времени является безальтернативным материалом для производства силовых полупроводниковых приборов. Следующее преимущество заключается в том, что для таких материалов не существует предела концентрации введенной примеси – она определяется только ядерно-физическими свойствами исходных материалов и временем облучения в ядерном реакторе. Такие материалы, прошедшие цикл облучения в ядерном реакторе и высокотемпературной обработки, имеют на порядок большую радиационную стойкость (предельный флюенс нейтронов при изменении характеристик более чем на 30%) – 1016 см-2 по сравнению с традиционными материалами (1015 см-2). Применение ядерно-легированных и радиационно-модифицированных материалов для использования в качестве подложек и рабочих структур позволяет значительно повысить качество и надежность полупроводниковых приборов.
Технологии радиационного модифицирования позволяют получить полупроводниковые материалы со свойствами недостижимыми традиционными методами.
Радиационно-модифицированный GaAs имеет в два раза меньший коэффициент оптического поглощения на длине волны =10,6 мкм, – (56)10-3 см-1, по сравнению GaAs, полученным традиционными методами выращивания – 1,210-2 см-1. Опытным путем установлено, что процент выхода годных приборов с пластины ядерно-легированного GaAs (на примере изготовления солнечных элементов) увеличился в десятки раз.Полупроводники. Нанотехнологии, связанные с электроникой и микроэлектроникой. Полупроводники. Полупроводниковые материалы (напр., кремниевые пластины). III/V полупроводниковые материалы (напр., арсенид галлия). НИР, лабораторные испытанияПатент полученИмеется 7 патентов на изобретения РФСовместная дальнейшая разработка
Испытание новых применений
Адаптация к потребностям заказчика
ПромышленностьПроизводство интегральных схем, микроэлектроника, силовая электроника, электротехника, солнечная энергетика и т.д. Проведение необходимых испытаний, разработка конечного изделия, сертификацияИспания
Италия
Израиль
Германия
Страны ЕС
Исследовательский институт / Университетболее 500
Обнинский Центр Науки и Технологий (г.Обнинск)

Адрес: 249033, Обнинск, ул. Горького, 4
Телефон: (48439) 9-56-44
Факс: (48439) 9-56-44
Если вас заинтересовал технологический профиль и вы готовы предложить его авторам требуемое сотрудничество, заполните представленную ниже анкету.

Информация будет отправлена члену сети RFR, представившему информацию по профилю.

Выразить интерес
Компания *
Адрес
Контактное лицо *
zip
Страна
Телефон *
Город *
Факс
Email

Прошу контактировать с помощью


Введите код

Введите код



Сообщение